1

Doseringsenhed baseret på konstant injektion af væske i et konstant gasflow. Doseringsprincip er nærmere beskrevet i /20/. Doseringsenheden tilfører TCE og toluen til bundkammer.

2

Konstant gasflow til doseringsenhed. Der tilføres kulfiltreret nulluft via en masseflowcontroller. Flow til bundkammer 1,0 l/min.

3

Konstant gasflow til topkammer. Der tilføres kulfiltreret nulluft direkte til topkammeret via en masseflowcontroller. Flow til topkammer 1,0 l/min.

4

Dosering af kulfiltreret nulluft til volumen under folie. Tilførslen føres ind via perforeringer i teflonslange langs indersiden af foliens kanter, jf. figur 2. Flow ind under folie varierer mellem 0,5 l/min. – 2,0 l/min.

5

Udgangsluft fra topkammer. Føres til afkast til det fri.

6

Udgangsluft fra volumen under folie (overskudsluft). Føres til afkast til det fri.

7

Udsugning af konstant delstrøm fra volumen under folie ved hjælp af pumpe. Det udsugede flow sættes til ca. 50% af det tilførte flow via (4). Afgangsluft fra pumpe føres til afkast til det fri. Via et T-stykke på (7) udtages ca. 1 gang pr. time en gasprøve til gaschromatografisk analyse (9).

8

Udgangsluft fra bundkammer. Føres til afkast til det fri.

9

Gaschromatograf med kapillarkollonne og fotoionisationsdetektor. Data opsamles og behandles automatisk på PC.

10

Måling af temperatur (T) og differenstryk (dP) mellem bund- og topkammer. 5 minutters middelværdier opsamles kontinuert på datalogger.